（深圳電鍍廠）真空鍍膜和其他鍍膜方式相比較具有以下特點：

　　（1）真空鍍膜可以在固態基體上鍍制金屬、合金、半導體薄膜及各種化合物薄膜，薄膜的成分可以在大范圍內調控。

　　（2）真空鍍膜可以鍍制高純度、高致密度、與基體結合力強的各種功能薄膜、光學薄膜。特別是大規模集成電路、小分子有機顯示器件、硅太陽能電池等很多器件所需的主題薄膜只能在真空條件下制備，其他制膜技術無法滿足要求。

　　（3）真空鍍膜對環境的污染小，特別是PVD方法，對環境基本沒有污染。用化學方法制備薄膜時，一方面膜自身受到制膜所使用的溶劑污染，性能降低，另一方面反應廢棄物對環境也會造成污染。

　　（4）真空鍍膜的主要缺點是需要有真空設備，相對來說成本比較高。

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